CMOS图像传感器像素辐射特性的仿真研究

来源 :哈尔滨工程大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zbtoy
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
近年来,随着半导体技术的快速发展及CMOS工艺水平的不断提高,CMOS图像传感器得到了快速的发展。目前CMOS图像传感器已广泛应用于各类电子产品、安防应用、医学、3D成像、汽车等相关领域。除了应用于民用领域,CMOS图像传感器在空间探测及军事领域也得到了广泛的应用,包括在卫星探测、空间探测、核保试验中的应用等。当CMOS图像传感器应用于空间环境时,空间辐射会对CMOS图像传感器性能产生严重的影响,导致CMOS图像传感器性能的严重下降。因此,对于抗辐射CMOS图像传感器的研究具有非常重要的意义。本文首先分析了 CMOS图像传感器的工作原理及SOI (Silicon on Insulator)工艺器件的特点,对CMOS图像传感器的各种性能参数、噪声组成及产生机理做了详细阐述。应用Sentaurus Sprocess软件对CMOS图像传感器4T像素结构进行了 2D工艺仿真,并模拟出了混合型SOI CMOS 4T像素的3D模型,通过仿真研究了辐射对像素性能的影响。本文在对埋沟SOI NMOS基本特性的仿真分析基础上,对埋沟SOI NMOS源跟随器的结构进行改进,并对改进后的埋沟SOI NMOS进行了仿真分析,将其应用于混合型SOI CMOS 4T像素中。同时本文对于混合型SOI CMOS 4T像素的感光区域也进行了抗辐射加固技术的应用。通过Sentaurus SDE仿真环境模拟了抗辐射加固后的混合型SOI CMOS 4T像素的3D模型,像素尺寸为2.9μm×2.9μm。通过Sentaurus Sdevice混合仿真对抗辐射加固后的4T像素的输出摆幅及抗总剂量辐射性能进行验证。仿真结果表明SOI CMOS混合4T像素的输出摆幅由2.7V提高为3.2V,应用改进后的埋沟SOI NMOS源跟随器的混合型SOI CMOS 4T像素的抗辐射性能由最初的1Mrads提高到2 Mrads。
其他文献
本国城市化进程持续加快,人们在建筑领域的需求也相应增加.特别是在物质生活的丰富,对于建筑体的要求不再只是面积和质量,更看中的如功能性和由科技带来的便利,导致建筑设计
随着人们对生活水平的不断提高,住宅建筑的发展也一直保持在一个良好的状态.住宅建筑发展到今天,人们对于它的要求已经不仅仅局限于实用性了.在很多情况下,住宅建筑要有创新
当今时代,我国高层建筑工程拔地而起,数量越来越多.在高层建筑工程整体功能当中,幕墙占据着十分重要的位置,其对建筑装饰与保护起到重要作用,因此,保证建筑幕墙设计工作的可
随着市场经济的不断发展和进步,暖通空调工程和给排水工程受到了广泛的关注.有关部门必须积极建立健全而全面的管理机制,科学地调节室内的温度和湿度,从而提高暖通排水的安全
建筑的结构设计形式会从根本上决定建筑的运行安全性,所以要求结构设计工作要完全按照相关规定设计和规划各项工程参数.基于对建筑结构设计过程常见安全性影响因素的分析和探
现代社会,高层建筑越来越多,针对于高层建筑的暖通设计也成为了人们不得不重视的问题,科学的暖通设计可以保证暖通设备合理运行,为居住人群带去较高的舒适度.高层建筑不同于
近年来,随着我国市场经济总体结构的升级与转型,大量农业人口转变为非农业人口,城市化发展进程加快.与此同时,部分城市旧有的交通体系无法满足城市的有序运转,时常出现城市交
现阶段,人们对建筑结构要求越来越高,而土木工程结构设计质量以及地基加固技术的应用效果,将会对主体工程安全性产生重要影响.为此,相关工作人员需要对此提高重视程度.