到目前为止微波电子学已经经过百余年的发展,现在已经建立起了比较完整的理论体系,这使得微波电真空器件成为了现代科技发展的重要组成部分。电子枪作为微波电真空器件的重要组成部分,同时也是微波电真空器件的心脏,它的设计对整个器件的各个参数有着决定性作用。随着技术的不断发展,由最初的皮尔斯电子枪,到现在多种多样的新型电子枪,各种电子枪层出不穷,以满足更高频率,更高效率,更高增益,小型化,响应时间短等要求。多注电子枪和带状注电子枪应运而生,多电子注技术能有效降低工作电压,同时多电子注电子枪在比较低的工作电压下的功率比单电子注电子枪的功率更高,作为新型的电子枪多注电子枪是研究热点,它的设计显得尤为重要。本论文研究的是平行电子注的产生和控制电子注传输的聚焦系统,聚焦系统的主要作用是平衡电子注的空间电荷力,以维持电子注保持一定形状,以避免电子注被高频结构截获,保证其良好的流通性。首先分析了强流电子光学系统的基本原理和强流电子枪的重要参数,然后对平行多注电子枪进行设计和仿真。通过需求分析确定电子枪各个参数,然后在CST中进行粒子仿真验证,得到理想的平行多注电子光学系统。然后对几种聚焦磁场理论进行了简单的理论推导,对所设计的平行多注电子光学系统的聚焦传输进行设计和仿真,具体包括三种聚焦磁场分别是:均匀磁场,PCM磁场和wiggler磁场,分析了不同电子轨迹形成的原因,总结了聚焦磁场对平行多注电子注的聚焦规律,获得了满足要求的平行多注电子枪的磁系统。