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本论文首先综合描述TiAlN薄膜及TiAlN基硬质薄膜的发展历程,TiAlN薄膜及TiAlN基硬质薄膜的结构特征、性能及其应用。简单介绍了物理气相沉积(PVD)方法和磁控溅射基本原理。在此基础上用反应磁控共溅射的方法通过改变Cr靶溅射功率在单晶硅(111)和不锈钢基体上沉积不同Cr含量,不同组织结构、不同性能、不同表面形貌的TiAlCrN薄膜。采用X射线衍射(XRD)研究薄膜的组织结构;采用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌;采用纳米压痕仪测量薄膜的硬度、弹性模量和薄膜