光刻胶是集成电路的基础工艺研究材料,随着近些年来大规模的集成电路的发展,光刻胶的研究开发和应用变得热门。光刻胶的重要组分之一是主体树脂。传统主体树脂的制备大多采用自由基溶液聚合,造成有机溶剂的大量使用,产生环境污染、资源浪费等问题。本文将制备的聚丙烯酸酯作为分散剂,通过悬浮聚合制备了光刻胶主体树脂,并对光刻胶的性能进行了研究。具体研究内容如下:（1）以甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯（PMEA）和丙烯酸（AA）为单体,以偶氮二异丁腈（AIBN）为引发剂,以丙酮为溶剂,通过自由基溶液聚合制备了水溶性聚丙烯酸酯分散剂,并对分散剂的结构、热行为、表面活性和保胶能力进行了分析。确定了分散剂的合成条件为反应温度65℃,反应时间10小时,理论固含量为45%。探究了中和度和引发剂用量对分散剂的性能的影响,发现分散剂中和度为30%,引发剂用量为3%所合成的聚丙烯酸酯分散剂（PD-4）性能最佳,将用于后续主体树脂的合成。（2）以甲基丙烯酸甲酯（MMA）、丙烯酸丁酯（BA）和甲基丙烯酸（MAA）为单体,以偶氮二异丁腈（AIBN）为引发剂,采用自制的聚丙烯酸酯分散剂（PD-4）,通过自由基悬浮聚合制备了光刻胶主体树脂,对树脂的结构进行了分析。对树脂的合成工艺和配方进行了优化,结果表明,最佳的工艺程序为70℃反应6小时,然后80℃反应2小时,最后90℃反应2小时。探究了引发剂用量和甲基丙烯酸含量对主体树脂的性能的影响。（3）将光刻胶主体树脂、活性稀释剂、光引发剂和溶剂混合,溶解均匀后分别制备了光刻胶膜,并对光刻胶膜的结构进行了分析。选择合适的溶剂,发现以丙酮作为溶剂,对主体树脂的溶解性最好。探究了主体树脂分子量和羧基含量对光刻胶膜的性能的影响。探究了活性稀释剂种类和用量对光刻胶膜性能的影响。