高抗冲聚苯乙烯（HIPS）是苯乙烯经少量丁二烯单体接枝改性的共聚物，具有优良的综合性能，因而被广泛应用于电器、家具、建筑等诸多领域。然而，HIPS树脂及其制品非常易燃，且燃烧时释放出大量黑烟和有毒气体，具有潜在的火灾隐患，因此必须进行阻燃处理。随着阻燃标准的不断提高和人类环境保护意识的增强，传统阻燃剂正在面临越来越多的挑战，因此改进传统阻燃剂的性能和发展新型的阻燃材料变得日益迫切。插层方法制备的聚合物／层状硅酸盐（PLS）纳米复合材料是一种新型阻燃材料，不仅可以提高聚合物材料的阻燃性和耐热性，而且具有发烟量少、无毒和对环境友好等特点，符合当前阻燃材料低烟、低毒和无卤化的发展趋势。但由于PLS纳米复合材料的阻燃性能主要来自蒙脱土无机片层的物理阻隔作用，其阻燃性能的提高都有一定的限度，大多数情况下尚不及优良的传统方法，如卤素阻燃体系，红磷阻燃体系等等。因此，进一步提高插层复合材料的阻燃性需要在插层基础上考虑其它途径。近年来发现，将传统阻燃剂与插层方法结合起来对聚合物进行阻燃是一种有效方法，不仅能够发挥传统阻燃剂阻燃效率高的优点，而且可以保留PLS复合材料阻燃性能的某些特点，如生烟性低等。如此，可以在既保证材料较高阻燃性的同时，尽量降低传统阻燃剂的添加量，以减少其带来的负面效应。 本文运用不同的表征手段研究了高抗冲聚苯乙烯／有机蒙脱土（HIPS／OMMT）复合材料的阻燃性能，微观结构和力学性质；并在此基础上，采用传统阻燃体系，包括四溴双酚A／三氧化二锑（TBBPA-Sb₂O₃）体系，十溴联苯醚／三氧化二锑（DBDPO-Sb₂O₃）体系，红磷／酚醛树脂（RP／PFR）体系和聚磷酸铵（APP）体系分别与有机蒙脱土（OMMT）并用对HIPS进行阻燃优化研究。 1．将钠基蒙脱土（Na⁺-MMT）用十六烷基三甲基溴化铵进行有机化改性，制成有机蒙脱土，利用X射线衍射和扫描电子显微镜分别对Na⁺-MMT和OMMT进行表征，研究结果表明：蒙脱土的层间距由处理前的1.52nm增加为2.25nm，处理后的蒙脱土具有明显的分层现象，片层之间变得比较松散，表明Na⁺-MMT经有机插层剂改性后，插层剂插入了蒙脱土的片层之间，使其片层间距被撑大。 2．采用挤出工艺，熔融插层制备HIPS／OMMT复合材料和HIPS／Na⁺-MMT复合物，利用X射线衍射和透射电子显微镜表征复合材料的微观结构，结果发现