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减少表面反射光损失是提高太阳能电池光电转换效率的重要方法之一。对于多晶硅电池,采用常规酸腐蚀表面织构工艺后,表面反射率仍高达20%以上,如何进一步其表面反射率显得至关重要。采用激光刻蚀、离子刻蚀、金属催化湿法腐蚀的方法可以在硅表面制备出纳米结构阵列,并具有优越的减反特性,然而与电池工艺相结合后,电池电性能特性却没有得到太大的改善,甚至反而有所降低。如何使纳米结构阵列低反射率的优势转换成电池良好的电性能特性意义重大,鉴于此,本文做了以下方面工作：1.采用等离子体浸没注入(PⅢ)刻蚀的方法在多晶