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本文首先对金刚石的性质进行概述，然后介绍了化学气相沉积法(CVD)生长金刚石膜的原理，接着对几种常见的CVD法进行比较和评述，由于EACVD法具有高效、低成本的特点，因此在这几种方法中选择EACVD法作为本课题设备生长金刚石膜的方法。 本文在理论分析的基础上提出了该设备的设计方案，该设备包括五个子系统，即机械系统、真空系统、水冷系统、气体传输系统以及电气控制系统。 本文还对金刚石膜的生长工艺进行了初步探讨，论述了金刚石膜的成核与生长工艺，以及各