多元Cr-Si系硅化物薄膜微观结构和电性能的研究

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该文在设计一系列Si/Cr原子比大于1的Cr-Si系改型溅射用合金靶材的基础上,具体研究靶材合金成分、溅射工艺与溅射膜结构、电学性能的关系,以及退火处理过程中薄膜微观结构、电性能的变化特征和薄膜氧化行为,结合分析电阻薄膜的稳定性和精密性,最终找到若干种适合于溅射特定阻值范围电阻薄膜的靶材合金成分范围.
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