21世纪国力的竞争归根到底为先进制造能力的竞争，在信息时代的今天，主要表现为对电子产业先进制造能力的竞争。目前，电子产品的先进制造业的快速发展方向为高精度、高性能、高集成度以及可靠性,因此，对加工工件表面的局部平整度和整体平整度都提出了前所未有的高要求（要求达到亚纳米量级的表面粗糙度），但是国际上普遍认为，加工工件特征尺寸在0.35μm以下时，必须进行全局平坦化，而化学机械抛光不但集中了化学抛光和机械抛光的综合优点，也是目前唯一可以提供整体平面化的表面精加工技术就是超精密化学机械抛光技术。本文主要研究硅溶胶化学机械抛光液。首先对化学机械抛光液的配方进行了设计，确定其组分及其在抛光过程中的作用；其次，用柠檬酸、磷酸、草酸、两种有机胺作为抛光液pH值调节剂，研究不同种类的PH值调节剂配制不同大小的pH值抛光液在不同抛光时间内对铝合金表面抛光质量的影响；然后，通过改变抛光液中氧化剂的含量研究氧化剂浓度对铝合金表面抛光质量的影响，并对铝合金表面形貌进行了分析；除此以外还研究了抛光液中硅溶胶固含量对铝合金表面抛光质量的影响；最后研究了pH值和不同种类的表面活性剂对抛光液稳定性能的影响。通过对铝合金表面的粗糙度、光泽度、金相显微结构、表面形貌、表面元素分析以及不同时间抛光液的透光率等测试，研究表明，抛光液的pH值、氧化剂浓度、硅溶胶浓度等严重影响着铝合金表面的抛光质量。其中，在抛光液中加入碱性pH值调节剂有机胺A，调节抛光液pH值为9.5抛光90分钟时抛光效果最好。在此基础上，氧化剂含量为0.06%，抛光液中共硅溶胶固含量为42%时对铝合金表面抛光质量最好。抛光液pH值偏离硅溶胶pH值越小，抛光液稳定性越好，并且使用非离子表面活性剂时抛光液稳定性较好。