精密片式薄膜固定电阻器是一种应用广泛的通用电子元件,尤其在需要高稳定性、高可靠性的航天、航空、国防以及在电子计算机、通讯仪器、电子交换机中应用较多。外资企业几年前就已经开始批量生产,我国台湾企业也是从前两年开始量产,但大陆目前只有极个别的厂家能够生产此类产品。本文的研究课题就是在这种背景下提出并着手研究的。本文主要采用双离子束溅射法制备固定电阻器用薄膜材料,并通过热处理、激光调阻、端涂、电镀等工序,最后制备出符合要求的精密片式薄膜固定电阻器。为制备出性能优良的精密片式薄膜固定电阻器,本文分两部分展开了研究。第一部分是电阻薄膜材料制备工艺与性能研究,重点研究低温度系数电阻薄膜的制备方法。从陶瓷基片表面粗糙度和洁净度、衬底温度、溅射功率、溅射时间和热处理温度对薄膜性能的影响等着手,通过对多种工艺因素的反复实验,最终制备出电阻温度系数小于10 ppm/℃的电阻膜层。在第二部分“薄膜电阻的高精度研究”中,通过对“优化蛇形切割以提高薄膜产品调阻合格率”和“激光调阻工序中影响产品精度的因素”两方面的深入分析,在实际工作中严格控制“人”、“机”、“料”、“法”、“环”五个关键节点,最终成功地制备出精度达±0.01%的精密片式薄膜固定电阻器。