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目前,针对非晶硅薄膜应用的研究已成为国际的研究热点。非晶硅薄膜(amorphous silicon, a-Si:H)具有独特的物理性能,可以大面积加工,因此作为太阳能光电材料已经在工业界中广泛应用；同时,它还在大屏幕液晶显示、传感器、摄像管等领域有着重要应用。早在20世纪60年代,人们就开始了对非晶硅的基础研究,70年代非晶硅开始用于太阳能光电材料。因此,非晶硅薄膜材料的性能研究得到业界的普遍关注。本文采用直流和射频磁控溅射方法分别在N型硅衬底和玻璃衬底上沉积氢化非晶硅(a-Si：H)薄