随着个人电子设备朝多功能、微型化、轻薄化、系统高度集成化方向发展,高端个人电子产品,例如下一代智能手机、Pad、iPhone、数码相机等,其制造商需要生产出功能强大、但更节能的产品。然而面向下一代高端个人电子产品的制造,最重要的技术当属印刷电路板(PCB)的光刻。传统PCB光刻采用的是汞灯接近式的曝光技术,成本高、其光刻精度低,对环境污染大。而数字光刻无论从成本,精度,亦或是生产效率和对环境的影响,都有着传统PCB光刻无法比拟的优势。因此针对PCB制造进行数字光刻相关技术研究具有非常重要的意义。基于初级像差理论本文设计了一组适合0.7XGA DMD的光刻投影物镜,该投影物镜组具有双高斯对称结构。此结构是最容易消除五种初级像差的初始结构。由于只是满足微米级PCB光刻的需要,该投影物镜组放大率为-1,且不用非球面镜即能让物镜达到13.68gm的精度。它总共由8片镜片组成,前4片与后4片关于中心光阑对称,因此在加工时只需加工4个透镜的模具,这样既可以降低成本,又有利于光刻系统中透镜的装配。基于DMD的工作方式进行了数字光刻扫描技术研究,提出倾斜扫描的技术,它的优势是消除了DMD的栅格效应,提高了成像质量。结合所设计投影物镜组它既能实现整数倍像素以外的线宽,又能提高图像的分辨率。在DMD倾斜扫描模式下进行了光刻实验,取得了良好的实验结果,实现了非整数线宽,和其他方法用于该精度的曝光情形相比,像面照度均匀,线条清晰,边缘陡峭且线性度好,因而能很好地满足光刻的需要。数字无掩模光刻掩模图形的生成在实际应用中较为复杂,例如如何识别线矢量图形,将线矢量图形转换为适合每一个微镜的格栅图形,发送这些格栅图形到DMD控制器,便于微镜反射开／关的执行等,因此我们进行了数字光刻动态图形控制技术研究。提出一种基于区域的数字光刻掩模图形生成方法,介绍了该方法的设计思想和设计流程,并对该动态图形控制技术进行了比较分析,讨论了该技术的可行性。