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采用真空热蒸发法在玻璃衬底制备纳米Sn薄膜,在空气或氧气气氛下对薄膜进行氧化、热处理,获得性能良好的SnO_2纳米多晶薄膜。采用同样方法制备稀土金属镝(钕、镧)掺杂纳米SnO_2薄膜。经X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、分光光度计等方法对薄膜进行各种性能测试,研究不同制备工艺、稀土掺杂含量、及热处理温度和时间对SnO_2薄膜的结构特性、晶粒尺寸、表面形貌、电学、光学、气敏特性影响。实验给出:以高纯Sn粉蒸发制备的薄膜,经T=550℃,t=45min氧化、热处理后,可获得性能良好的SnO_