结晶器铜板表面电沉积RE-Ni-W-P-B<,4>C复合镀层的研究

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本文对结晶器铜板表面电沉积RE-Ni-W-P-B<,4>C复合镀层进行了分析。通过实验研究了不同镀液组成和工艺条件对镀层硬度、厚度、表面和截面形貌的影响,对实验条件下获得的镀层,用HM-114型显微硬度仪测定镀层的硬度,用ASM-SX型扫描电子显微镜分析了镀层的表面形貌和截面形貌以及厚度。实验结果表明,在镀态下RE-Ni-W-P-B<,4>C复合镀层的硬度达到825.1~1097.5HV,厚度为20.5~150μm。通过分析得出的最佳复合镀液组成和工艺条件为:NiSO<,4>·6H<,2>O:70g/L,NaH<,2>PO<,2>·H<,2>O:10g/L,Na<,2>WO<,4>·2H<,2>O:150g/L,C<,6>H<,8>O<,7>·H<,2>O:140g/L,B<,4>C:90~110g/L,CeO<,2>:11g·L,pH:6~7,D<,k>:10A·dm<-2>,T:60℃,t:4h,前三小时持续搅拌,后一小时停止搅拌。
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