电子束蒸发沉积掺杂TiO2薄膜的结构控制及其性质研究

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【摘要】

：

近几十年来,Ti02作为一种在紫外光和可见光区都具有高响应的光电材料,由于其独特的优点,如无毒、热稳定性好、高效的光催化活性,一直是研究热点。但是,Ti02禁带宽度大,在紫外光区具有高响应和高的电子空穴复合率,其广泛应用受到了限制。为了有效的利用可见光区和降低电子空穴复合率,对Ti02薄膜的改性引起了广泛的研究兴趣。本文采用电子束蒸发法制备了掺杂La203的Ti02薄膜,研究掺杂元素La的含量、基

【作者】

：

陆中丹

【机构】

：

南京理工大学

【发表日期】

：

2012年12期

【关键词】

：

电子束蒸发 La掺杂 Si掺杂二氧化钛薄膜退火处理光催化

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