基于B-H活化的邻-碳硼烷选择性乙酰氧化及芳基化反应研究

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邻-碳硼烷是一种具有三维芳香性的二十面体原子簇合物,因其独特的光电及生化活性,邻-碳硼烷衍生物在硼中子捕获治疗(BNCT)、发光材料、配位化学等领域具有重要的应用前景。为此,开展邻-碳硼烷官能化的方法学研究对推进碳硼烷化学的发展及其在相关领域的应用具有重要意义。然而,邻-碳硼烷含有十个化学环境极其类似且反应活性相差甚微的B-H键,因此实现B-H位点的特异选择性官能团化一直是硼化学工作者追求的目标之一。邻-碳硼烷电子云密度理论计算结果表明,十个B-H位点的亲电反应活性B(8,9,10,12)>B(4,
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伴随着信息技术的飞速发展,人工智能、5G等高新信息技术已慢慢地走进了我们的生活,高新技术必然要求更高的制造工艺与技术,这就对承载这些高新技术并且被称为“电子信息产品之母”的印制电路板(printedcircuit board,PCB)的制造带来了新的挑战,要求PCB不断向小型化、功能化、高度集成化和高稳定性发展。实现PCB层间互连孔金属化的电镀铜技术是决定PCB发展的关键技术之一,铜镀层性能的好坏直接决定了PCB的可靠性和电气性能,而为了保证铜镀层的可靠性,目前工业生产上往往采用较低的电流密度来实现,比如
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