论文部分内容阅读
微通道板（MCP）防离子反馈膜本质上是一种超薄非晶态Al2O3连续膜，研究MCP防离子反馈膜及其对Ⅲ代微光管影响的目的是就是为了提高Ⅲ代微光管的性能。 二极骤冷磁控溅射技术是制备MCP防离子反馈膜的一种比较先进的技术方案，其中MCP不浸水工艺制备的掩膜提高了防离子反馈膜的质量，紫外辐射脱膜降低了带膜MCP通道内表面的碳污染。本文实验测试和理论分析了防离子反馈膜和带膜MCP的性能，得到了低溅射率MCP防离子反馈膜成膜的最佳条件，指出防离子反馈膜能有效地透过电子，阻止反馈离子；MCP带膜后电子增益下降，体电阻增加，暗电流降低，探测效率下降。二极骤冷磁控溅射技术制备防离子反馈膜的工艺条件是苛刻的，偏离最佳成膜条件不能在MCP上形成连续膜，而且造成MCP通道表面严重的碳污染。 无碳污染的MCP防离子反馈膜新工艺方法是提高Ⅲ代微光管性能的有效途径。新工艺由自持连续有机衬底的制备、铝膜的沉积和防离子反馈膜的贴附三道工序组成。新工艺避免了MCP同水及有机膜的直接接触，MCP的通道内表面不受碳污染。测试结果表明，新工艺不影响MCP的体电阻、暗电流和工作寿命，对MCP的电子增益影响较小，新工艺制备的防离子反馈膜膜层含碳量低。