掺杂PbSe薄膜的制备、后处理及光电性能的研究

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【摘要】

：

本文以高结晶质量、光学带隙可调,且对红外光敏感的掺杂PbSe薄膜为主要研究对象,开展了如下研究:(1)采用磁控溅射技术,通过控制变量,制备了一系列Sn掺杂PbSe薄膜。并对其微观形貌、晶体结构、光学性能进行了分析。将薄膜制成光敏器件,测试其光电性能,发现溅射功率(P)为60W、溅射偏压(V)为50V、衬底温度(T)为100℃时,薄膜对红外光的灵敏度、响应性及稳定性最好。(2)室温下,采用化学浴沉积

【作者】

：

宋佳利

【机构】

：

北京化工大学

【发表日期】

：

2019年01期

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