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本文采用直流磁控溅射方法,以普通光学玻璃和单晶硅为基底,Ar为工作气体和石墨以及硅片为靶材,制备无氢类金刚石薄膜和掺硅类金刚石薄膜。采用紫外-可见光光谱仪和荧光光谱仪对薄膜的光学性质进行了分析;薄膜的成分、结构和表面形貌分别通过X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD),拉曼光谱仪,原子力显微镜(AFM)分析。并测量了薄膜的透过率,光学带隙和表面的粗糙度等性能,研究了不同基底及不同工艺条件对薄膜结构和性能的影响,找出最佳的沉积条件,重点分析了不同硅含量对薄膜的结构性能的影响。研究结果