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电子辅助化学气相沉积法(Electron-Assisted Chemical Vapor Deposition,简称为EACVD)是制备金刚石膜的重要方法之一,该法具有设备简单、生长易控制、膜层质量好等优点。为了促进金刚石膜在光学窗口材料中的应用,小型化金刚石膜沉积设备的研制开发已成为非常迫切的课题。本文在对EACVD法制备金刚石膜的工艺要求以及影响因素进行详细分析的基础上,设计出了用于制备平面、球面纳米金刚石膜的小型化设备,并对其中的关键问题进行了研究。本文的主要工作和取得的成果