许多精密装备(如:投影光刻机)和仪器(如:精密激光干涉测量仪)对其工作环境都有严格的要求,因此需要设计一套微环境系统来为其正常工作提供良好的环境条件。本文主要针对检测平台微环境系统中腔室恒温技术以及送风气浴技术进行研究,主要研究工作与结论如下:分析了检测平台两个关键区域不同的温度控制需求以及温度变化对设备和仪器性能的影响,总结了检测平台结构特点以及对温度控制的影响,并提出了不同的送风方案模型。采用顶部送风单元并考虑腔室净化等因素,形成一体化高效送风口的方案。针对工件台区域结构紧凑性特点和对稳定气幕的要求,提出了一种包括流量分配板、滤布和均匀流体通道的组合式新型气浴单元方案模型。利用数值仿真的方法对影响流量分配板流量分配均匀的单因素包括流量分配腔的长高比、流量分配腔与分配板面积比及槽孔个数进行仿真分析,得出各因素对结果的影响变化规律。对上述因素进行正交试验分析,得到因素间的最优水平组合及各因素水平对出口流量均匀性的影响程度高低规律。利用滤布基本孔单元模型公式对滤布型号参数进行了计算,并参考多孔介质模型来对滤布进行等效计算以解决滤布结构微观致密难以仿真的问题。为减少工程加工难度以蜂巢板代替多孔板来建立均匀流体通道,并以出口速度均匀性为评价指标对整体气浴单元进行联合仿真,最终得出适用于本装置的蜂巢板参数。对实验样机进行了性能测试,工件台气浴单元出口均匀度达到8.8%,核心区域温度稳定性均达到了22±0.1℃的精度。目前微环境系统已成功应用于光刻机检测平台。