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随着社会经济的快速发展,电子产品朝着微型化和高频化的方向发展。为了进一步满足磁性电子元器件的应用需求,我们用半导体材料取代先前的绝缘体材料分别在玻璃基底和硅基底上制备铁磁金属/半导体多层膜。本文中,我们利用直流和射频磁控溅射的方法,制备了[Fe65Co35/ZnO]n多层膜。而且还通过X射线衍射仪、高分辨率透射电镜、振动样品磁强计、直流四探针法以及矢量网络分析仪对样品的结构、微结构、电性和磁性进行了一系列的研究。具体研究结果如下:X射线衍射结果表明:随着半导体ZnO层厚度t的逐渐增加,ZnO的结晶度