含硅高分子稀土铽、铕荧光材料的制备与性能研究

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【摘要】

：

本文对稀土高分子荧光材料的制备和应用进行了阐述,同时将硅元素引入高分子基质中以便提高材料的热稳定性,基于此,采用键合法和掺杂法分别制备了两种含硅稀土高分子荧光材料,并对其相关性能进行了探究。在键合法的方案中,先将三氟丙基甲基环三硅氧烷(D3F)开环,开环后的D3F再与3-(2-氨乙基)-氨丙基三甲氧基硅烷(SCA-603)反应得到氨基氟硅油(PFSi),接着与异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)反应制备

【作者】

：

郝海霞

【机构】

：

苏州大学

【发表日期】

：

2018年01期

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