磁控溅射纳米二氧化钛薄膜的制备及相关特性研究

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【摘要】

：

通过射频磁控溅射的方法，成功地制备了纳米TiO_2薄膜并且研究了TiO_2薄膜的相关特性。考察了TiO_2靶与基片距离、工作压强、靶的蚀刻对薄膜沉积速率、均匀性、折射率的影响；采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的晶体结构进行了检测，并且讨论了靶材料、基片类型、及退火温度对薄膜晶体结构的影响；采用紫外—可见分光光度计(UV—ViS)分析了薄膜的禁带宽度及退火温度对薄膜禁带宽度的影响，采用激光共聚焦拉曼

【作者】

：

赵丽特

【机构】

：

暨南大学

【发表日期】

：

2004年05期

【关键词】

：

纳米TiO2薄膜磁控溅射晶体结构光催化性能亲水性能

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期刊

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