纳米压印光刻技术作为新一代芯片制造技术之一，因其具有加工成本低廉，生产加工效率高等优点而受到了广泛的关注。而在相关领域的研究中，对于用于光刻机的精密定位工作台所涉及定位技术的研究具有重要的意义。精密定位工作台作为纳米压印光刻机的核心部分，其定位精度直接影响光刻机的压印图形质量。本文深入系统地研究了一种用于纳米压印光刻机的精密定位工作台的构型设计、运动学分析、静力学分析、误差分析与建模等关键技术，具体内容如下：1.以传统3-PPRR并联机构为基础，将机构中的传统运动副用相应的柔性铰链代替，设计了一台精密定位工作台，并建立了该机构的SolidWorks三维模型。该定位工作台以压电陶瓷驱动器作为驱动装置，从而实现机构末端位姿的主动调整。2.建立了机构的伪刚体模型并通过其运动约束方程，得出了机构的位置逆解表达式，进而得到机构的位置正解表达式。得到了机构速度及加速度的正反解。通过RecurDyn对机构进行运动仿真从而对所规划的运动轨迹进行验证。最后利用Matlab软件对机构的工作空间进行了仿真。3.对各类柔性铰链刚度进行分析与建模后，建立了柔性并联机构的静刚度理论模型，利用所建立的三维模型对本定位机构进行了有限元分析与仿真，最终验证该机构的静力学特性满足本课题的要求。4.最后，对影响精密定位工作台的多项误差源进行了综合分析与研究。建立了精密定位机构的误差模型，并提出了两种误差补偿办法。