射频等离子体放电制备DLC/Mo-DLC膜的性质研究

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类金刚石薄膜(diamond-like carbon,简称DLC)具有诸如:高硬度、低摩擦系数、极高的电阻率等许多优良的特性而引起了人们广泛的兴趣。但在某些方面DLC膜还存在着缺陷如:内应力大、热稳定性差、与许多衬底的附着性差。为了改善DLC膜的性能,掺金属的类金刚石薄膜从而成为人们研究的重点。本论文采用了双射频激发容性耦合等离子体增强化学气相沉积技术,高频运用40.68 MHz;低频运用13.56 MHz,以Ar和CH4为源气体在硅和BK7玻璃衬底上制备了DLC膜,研究了等离子体放电参
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