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近些年,随着光栅应用的不断深入,对其性能要求也越来越高,“大面积、高精度”已经是未来光栅制造的新标准。目前,我国已经具备一定的光栅制造能力,但是在“大面积、高精度”光栅的制造方面仍然有待于进一步提高。国内制造光谱仪器所需的“大面积、高精度”光栅主要依赖于进口,这也成为制约我国光谱仪器行业发展的“瓶颈”。因此,研制出具备刻划大面积、高刻划密度衍射光栅的高性能衍射光栅刻划机并且在此基础上不断的改进设计,将是一件非常有意义的工作。论文主要介绍了光栅刻划机国内外的研究现状以及大行程纳米级定位平台的研