随着科学仪器、微机电系统,光电信息技术的迅速发展,各工业部门对零件表面质量的要求越来越高,如X射线反射镜和激光陀螺反射基片均要求表面粗糙度在亚纳米级尺度。这对超精密表面测量技术和测量理论体系提出了更高的要求。因此本文围绕超精密加工表面测量的相关问题开展了相应的研究工作,具体研究内容包括如下几个方面:综述了二维及三维表面形貌的传统评定方法,讨论了这些传统参数在应用中的局限性,进而引入了功率谱密度评价方法,并对一维及二维功率谱密度的定义及估计算法进行了详细地分析。鉴于传统估计算法的固有缺陷,提出了三种提高功率谱密度估计质量的方法,并举以实例针对每种方法进行了验证,结果表明三种方法均能不同程度地克服原算法的缺陷,提高了功率谱密度估计精度。总结了原子力显微镜、触针式轮廓仪及白光干涉仪的原理及性能参数,分析了这些仪器的误差影响因素,并在此基础上,应用这些典型的仪器分别对包括石英玻璃、单晶硅片及微晶玻璃在内的三种试样表面形貌进行了测量,给出了这些表面的粗糙度值。而不同的测量仪器具有不同的频带宽度,因此所测得的粗糙度值并不能直接地进行对比。通过计算这些表面的一维功率谱密度,并在三种仪器共有的频段内计算每种仪器对应的功率谱密度曲线下方的面积,即均方根值,实现了对不同仪器测得的粗糙度值进行直接地对比。通过对比发现,原子力显微镜是用于测量高频表面结构的最佳仪器。通过对测量结果的进一步分析发现,测量条件(如采样间距,扫描范围)的改变直接影响着表面粗糙度,考虑到目前尚没有指导选择合理采样条件的标准文件,因而本文提出了基于频谱分析的确定合理采样条件的方法,并通过测量两种典型表面验证了这一方法,证明了此方法是合理的。除此之外,本文还应用了原子力显微镜对在不同工艺条件下得到的超精密加工表面进行了测量,并应用功率谱密度表征了各种表面。通过对功率谱密度曲线的对比研究发现,功率谱密度是指导加工方法选择及工艺参数优化的有力工具,它能够定量地描述表面轮廓在空间频段的分布情况,为系统地分析超精密加工工艺对表面质量的影响提供了丰富的信息。