缓冲层对AZO和VO2薄膜光电性能的影响

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透明导电氧化物薄膜与相变氧化物薄膜在薄膜晶体管、发光二极管、太阳能电池、传感器和相变存储器等微电子和光电子领域具有广泛的应用前景,成为薄膜材料领域研究热点。ZnO:Al(AZO)薄膜和VO_2薄膜在热电、压电和光电器件等诸多领域都表现出优异的性能,在众多材料中脱颖而出。本文采用磁控溅射法和脉冲激光沉积法制备AZO和VO_2薄膜,研究了缓冲层对薄膜光电性能的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱(Raman)、原子力显微镜(AFM)、霍尔效应测试仪(HMS)和紫外-可见光-红外分光光度计(UV-V
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