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近年来聚合物发光材料由于其很多的优异性质而成为国内外一个研究热点，其中聚噻吩衍生物是一类重要的有机发光材料。它们常常具有良好的光学活性、环境稳定性以及可加工性能，被广泛地应用在电子学、光学、生物学等领域。通过化学结构改造提高其发光效率的一个有效方法就是在聚合物中引入电负性基团，改善聚合物的光学性能。
本论文通过化学方法制备了一种新型聚噻吩衍生物。并用IR，1HNMR，UV等表征手段对其进行了表征研究。结果表明，聚3-(吡啶-3-基)噻吩是很好的发光体。