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凸面光栅成像光谱仪是一种重要的观测仪器,具有高分辨率、高时效性、测量范围广等优点,目前已广泛应用于资源勘探、农业生产、科学研究、医疗卫生、军事侦查等领域,凸面闪耀光栅是该成像光谱仪的关键元件,通常凸面闪耀光栅的工作波段范围较窄,较难满足宽波段光谱仪的需求,采用凸面双闪耀光栅是拓宽工作波段的有效手段。本文围绕全息离子束刻蚀法制作凸面双闪耀光栅,进行了理论分析与工艺探究,主要包含了如下几个方面:首先介绍了凸面闪耀光栅制作方法与国内外研究现状,简单介绍了离子束刻蚀技术与Kaufman离子源,结合实验数据绘