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纳米薄膜材料作为一种新型材料,由于其特殊的结构特点,以及电、磁、光特性和力学性能,在电子工业迅速崛起的今天,越发能体现其重要价值。而纳米薄膜衬底表面形貌决定了纳米薄膜的原子层堆积形态及其生长方向,对纳米薄膜产品的综合性能具有巨大的影响。现阶段制备纳米薄膜超光滑衬底的加工方法很多,但仍然存在一些不足之处。本文为了制备出纳米薄膜超光滑衬底,提出了一种新型抛光方法——液动压悬浮抛光。这种方法的目的在于提高抛光加工时的液体承载能力,改善加工区域的抛光液压力的分布均匀性,以制备出超光滑的纳米薄膜衬底。本文的主要研究内容有:(1)分析了游离磨粒抛光过程中游离磨粒的运动状态和冲击去除材料理论。通过二维模拟比较了三种流道结构的优劣,发现其中存在的不足,提出了一种含约束边界的新型抛光工具盘。(2)运用FLUENT软件对三维流场模型进行数值模拟,得出抛光工具盘结构参数、加工参数对液体压力分布的影响。通过二相流模拟,得出抛光过程中悬浮磨粒对抛光液压力的影响以及悬浮磨粒的运动情况。(3)搭建了液动压悬浮抛光装置,利用液体压力检测装置对不同加工参数下的液体压力进行了实时监测。采用机械抛光对试样进行表面预加工,最后采用液动压悬浮抛光装置进行超光滑表面加工,对加工前后的试样进行了TEM试样表征对比,验证液动压悬浮抛光方法能够制备原子级的超光滑表面。