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本文采用金属Zr靶和CuO陶瓷靶，利用磁控溅射法制备了Zr薄膜和CuO薄膜，研究了不同工艺条件对薄膜质量性能和制备薄膜的沉积速率的影响，得到了Zr薄膜和CuO薄膜的最佳制备工艺条件。利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)、X射线衍射仪(XRD)等分析手段对薄膜的微观形貌、成分和相组成进行了研究，结果表明制备的薄膜光滑致密，成分和靶材基本一致，薄膜均为晶相结构。在最佳工艺条件下制备了Zr薄膜、CuO薄膜和CuO-Zr复合膜，并对薄膜进行了光声光谱的检测和分析。结果表明Zr薄