表面光陷阱结构对太阳能电池是非常重要的,其作用是提高太阳能电池的光电转换效率。本文制备了单晶硅绒面结构、硅倒金字塔结构和宏孔硅阵列结构三种光陷阱结构,系统地研究了不同工艺条件对三种光陷阱结构的影响,分析了表面光陷阱结构与其抗反射性能的关系。单晶硅制绒实验中,研究了IPA(异丙醇)浓度,反应温度和腐蚀时间对绒面结构的影响。最后确定的最佳工艺参数为:NaOH的浓度为2wt%,IPA的浓度为12wt%,在80℃的恒温下,腐蚀50min。得到尺寸均匀,覆盖率高,形貌理想,具有较高抗反射性能的单晶硅绒面光陷阱结构。制备倒金字塔光陷阱结构过程中,研究了反应温度和腐蚀时间对倒金字塔结构的影响。对比不同倒金字塔光陷阱结构的抗反射性能发现:尺寸相同,排列方式不同的倒金字塔光陷阱结构的抗反射能力相同;对于面积相同的样品,倒金字塔光陷阱结构的图形面积占总样品面积的比例越大,抗反射性能越好。采用光电化学腐蚀的方法制备宏孔硅光陷阱结构,研究了腐蚀电压和表面活性剂对宏孔硅结构的影响。对比不同宏孔硅光陷阱结构的抗反射性能发现:对于孔深相同的宏孔硅光陷阱结构,表面上孔隙率越大,其抗反射性能越强。