微弧氧化技术是目前公认的较为理想的镁合金表面处理方法,这种方法是一种电化学氧化并伴有火花放电的新型表面处理方法。氧化处理过后,合金表面生长一层致密的氧化物陶瓷膜,膜层具有该膜与基体结合力强、厚度可控制等特点；而且,该工艺方法对处理工件尺寸要求小。氧化后的工件极大提高了合金的耐磨损、耐腐蚀、抗热冲击及绝缘性能。所以探讨陶瓷膜的生长特征以及腐蚀行为,对于促进微弧氧化技术的应用,具有十分重要的意义。在制备工艺方面,本文通过正交试验优化了微弧氧化电解液的配方,并在优化的电解液配方下确定了电解液浓度、输出电压、电解液温度和氧化时间等工艺参数,表明电参数与电解液等相关参数对陶瓷膜生长过程的影响至关重要。重点探讨了处理液中KF、KOH和NaAlO2的浓度对膜层的厚度的影响。通过SEM、XRD、涡流测厚仪对膜层组织结构进行了测试。从分析结果可知：膜层表面呈多孔状,孔洞周围存在火山状沉积结构,主要由Mg、MgF、MgO、MgAlO2等相组成,膜层且厚度均匀。在膜层性能方面,通过划痕仪测试可知膜层与镁合金基体结合紧密。利用NaCl溶液浸泡实验研究了微弧氧化膜层的耐腐蚀性能,结果微弧氧化膜表现出了良好的耐腐蚀性。随着膜层厚度的增加,膜层的耐腐蚀性也越来越好,当膜厚达到15μm时膜层的耐腐蚀性最佳。