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基于高中历史新课标的新教材内容与策略研究 ——以“抗日战争”为例
【出 处】
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江汉大学
【发表日期】
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2021年01期
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本文利用单因素及正交试验探究磨粒种类、抛光液pH值、表面活性剂种类、磨粒粒径对C面蓝宝石化学机械抛光材料去除率的影响,试验结果表明:采用二氧化硅作为磨粒能得到较高的材料去除率及较好的表面形貌;材料去除率随抛光液pH值的增大呈现先增大再减小的趋势,其中pH值在9附近能得到较好的去除率;材料去除率还随着磨粒粒径的增大而增大;使用三乙醇胺（TEA）、十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）作表面活性剂能得到较高