磁控溅射技术作为一种有效的镀膜沉积技术，因其可以低成本制备出均匀、附着力好、致密度高、内应力小的优质薄膜，而广泛应用于能源、环境、物质、材料等诸多专业领域。磁控溅射电源作为磁控溅射装备的关键设备，它的性能好坏直接决定了镀膜沉积的质量和效率，因此设计出稳定性好与可靠性高的磁控溅射电源是很有必要的。　　本文主要对磁控溅射电源的恒流特性和抑弧进行了分析与研究。首先分析了等离子体负载的特性，得到了磁控溅射镀膜工艺对电源的特殊需求；其次针对等离子体负载非线性特性造成电源的恒流特性差、起辉成功率低、易出现打弧等现象，本文基于双极性脉冲变换器的主电路拓扑，采用状态空间平均法建立了脉冲磁控溅射电源的等效数学模型，设计了一种PI控制电压环与带指数趋近律的滑模变结构控制电流环相切换的复合控制方法，重点对滑模变结构电流控制方式及抑制抖振方法进行了分析与设计，并进行了ulinkMatlab/sim仿真对比分析，验证复合控制策略的合理性与有效性；再次针对不同类型的电弧特点，设计了“三重检测”和“两级保护”组合的弧检测与弧抑制方法；最后基于8DSP TMS320F280，设计开发了相应的控制算法和软件程序。　　在理论分析与Matlab仿真验证的基础上，在一台6kW脉冲磁控溅射电源样机平台上，对新型控制策略进行了实验测试，实验结果验证了本文提出的控制策略的可行性和正确性，磁控溅射工艺的需求能够得到满足。