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随着电子工业和医药行业的发展,对高纯物质特别是超净高纯试剂和原料药中杂质提出更高的要求,但是针对不同类型样品杂质测定的方法还很不健全。在痕量元素分析中,电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)和电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)都是最常用的方法,但其中的干扰效应差别很大。新兴的激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法(LA-ICP-MS)因具有样品处理简单、快速的优点而得到迅猛发展。本文主要研究了它们在痕量杂质元素中的干扰效应以及消除方法,用于杂质测定得到满意结果。(1)建立了ICP-AES和IC