【摘 要】
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在钛片上用二茂铁化学沉积（CVD）制备了多晶α-Fe2O3光电极。这种电极的工作光谱延伸到670nm,大大超过了与其能带间隙相对应的550nm。这种光响应的增强归因于氩氛热处理时由底层
【机 构】
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中国科学院感光化学研究所;中国科学院感光化学研究所;
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在钛片上用二茂铁化学沉积（CVD）制备了多晶α-Fe2O3光电极。这种电极的工作光谱延伸到670nm,大大超过了与其能带间隙相对应的550nm。这种光响应的增强归因于氩氛热处理时由底层扩散而导致的钛的掺杂。离子溅射逐层剥离术和俄歇电子能谱给出这种掺杂下各组分的表层深度分布,结合X-射线粉末结构分析和扫描电子显微术得到了α-Fe2O3薄膜结构。借助于与热氧化法结果的对比,改变CVD底层材料效果对比,以及粉末α-Fe2O3的TiO2掺杂效应,都给上述钛掺杂影响光响应的观点提供了佐证。 以二茂铁CVD和热氧化两种光电极对比,两者同具α-Fe2O3外表面而应有接近的平带电势Efb,其中前者底层附近的钛掺杂能扩大光响应,应能在Efb值所要求的偏压下得到显著的光助电解水效应。实验结果与此一致。
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