【摘 要】
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采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅（Ge-SiO2）薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺
【基金项目】
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国家自然科学重点基金资助项目（60838003）, 福建省自然科学基金资助项目（2009J01291）
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采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅（Ge-SiO2）薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm.将纳米Ge-SiO2薄膜作为可饱和吸收体插入激光二极管泵浦的平-凹腔Nd∶YVO4激光器内,实现1 342 nm激光的被动调Q运转,获得脉冲宽度约为40 ns,重复频率为33.3 kHz的调Q脉冲序列输出.根据实验现象并结合薄膜结构,认为纳米Ge-SiO2薄膜的界面态和缺陷态是产生调Q的主要原因.
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