【摘 要】
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采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积Cr Al N涂层.对Cr Al N涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对Cr Al N涂层组织和性能
【机 构】
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东北大学机械工程与自动化学院,重庆新恒基真空镀膜有限公司
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（51775096）, 中央高校基本科研业务费专项资金资助项目（N141008001/2）, 沈阳市科学技术计划项目（Y17-0-003,F16-080-8-00）
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采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积Cr Al N涂层.对Cr Al N涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对Cr Al N涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒数量逐渐减少,涂层变得更加致密;但过大的负偏压导致离子轰击作用过强,使涂层表面再次出现缺陷.当负偏压为-200 V时,涂层的晶粒尺寸最小,并具有良好的结晶度.涂层的显微硬度和结合强度均随负偏压的增加呈现出先增加后减小的趋势.当负偏压为-200 V时,显微硬度达到最大值,为28.6 GPa,同时具有最好的摩擦学性能.
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