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【目的】阐明弱光胁迫下黄瓜下胚轴性状的遗传特点。【方法】以耐弱光黄瓜品系M22与不耐弱光黄瓜品系M14及其F1、F2、回交世代（B1、B2）为试验材料，应用F2群体分离分析方法与主基因＋多基因模型分析法，于2007和2008年对弱光（日平均光强为100μmol／（m^2·s））条件下黄瓜的下胚轴长与下胚轴粗进行遗传分析。【结果】群体分离分析结果表明，黄瓜F2代群体中下胚轴粗和下胚轴长性状遗传变异幅度均较小，其中下胚轴粗在2007和2008年的变异幅度分别为0．258和0．226cm，下胚轴长分别