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利用光谱型椭偏仪测量了镀在熔石英玻璃基片上的氟化镁薄膜在300~850 nm波长范围内的椭偏参数,并利用Levenberg-Marquardt算法,反演出了氟化镁薄膜在该波长范围内的色散曲线。通过与纯氟化镁体材料的色散曲线比较,发现所镀的氟化镁薄膜的折射率略小于体材料的折射率。
薄膜光学常数的椭偏测量
【摘 要】
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利用光谱型椭偏仪测量了镀在熔石英玻璃基片上的氟化镁薄膜在300~850 nm波长范围内的椭偏参数,并利用Levenberg-Marquardt算法,反演出了氟化镁薄膜在该波长范围内的色散曲线
【机 构】
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国防科技大学
【出 处】
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大学物理实验
【发表日期】
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2011年1期
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