反应磁控溅射沉积TixAlyNz热控薄膜研究

来源 :真空与低温 | 被引量 : 0次 | 上传用户：CRONALDO_7

【摘要】

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采用反应磁控溅射技术,以Ti和Al为溅射靶材料,Ar和N2为溅射气体,在Al基底上沉积TixAlyNz热控薄膜.优化制备薄膜的最佳实验条件.对薄膜进行XRD、XPS分析及热光学测试,研究了Ti

【作者】

：

李智崔敬忠李冠斌梁耀廷

【机构】

：

兰州物理研究所

【出处】

：

真空与低温

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

磁控溅射沉积热控磁控溅射技术最佳实验条件 XPS分析光学测试光学特性结构特点溅射制备磁控反应薄膜厚度平衡温度靶材料 XRD Al靶热作用

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采用反应磁控溅射技术,以Ti和Al为溅射靶材料,Ar和N2为溅射气体,在Al基底上沉积TixAlyNz热控薄膜.优化制备薄膜的最佳实验条件.对薄膜进行XRD、XPS分析及热光学测试,研究了TixAlyNz薄膜的结构特点及热光学特性.结果表明,采用独立Ti、Al靶的磁控反应溅射制备的TixAlyNz热控薄膜,通过控制薄膜厚度与组成,在忽略飞行器内部热作用的条件下其平衡温度为34℃.

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