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设计了循环氩离子轰击０ＰＥＣＶＤ ＴｉＮ工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氩离子氮击对ＰＥＣＶＤ ＴｉＮ膜耐腐蚀性能的影响及作用机理。结果表明，循环氩离子轰击提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能。这种主要是由于循环氩离子轰击强化了沉积中的反应，细化了ＴｉＮ晶粒，降低了膜层中的残余氯含量。循环氩离子轰击还可能具有减少膜内缺陷、提高ＴｉＮ膜致密性的作用，从而亦有助于提高膜的