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在微电子集成领域当中，电子束光刻技术和ICP刻蚀技术是十分重要的技术，能够通过一系列的生产步骤，去除晶圆表面薄膜的特定部分，并在晶圆表面留下微圆形结构的薄膜。光刻与刻蚀技术的应用，对于微电子集成的生产和优化具有重要的作用，因而得到了十分广泛的应用。基于此，本文对电子束光刻技术和ICP刻蚀技术进行了研究，以期能够为这一领域的发展做出贡献。