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以镀层表面光亮度和结合度为目标函数，采用正交实验法分别考察了NiCl2·6H2O、NaH2PO2·H2O、KBH4、H2NCH2CH2NH2、3CdSO4·8H2O和温度对石英光纤表面化学镀Ni—P—B的影响，并确定了它们的优化条件分别为：24g·L^-1，10g·L^-1，1．0g·L^-1,24mL·L^-1，0．6mg·L^-1和90℃。采用单因素实验法研究了上述各工艺参数对Ni—P—B沉积速度的影响，在此基础上，建立了