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申请公布号：CN105779953A
申请公布日：2016.07.20
申请人：三星电子株式会社
地址：韩国京畿道水原市
发明人：赵真贤；刘炯准；李瑞埈；郑珉哲；郑贤俊
Int. Cl.：C23C14/35（2006.01）I；C23C14/06（2006.01）I；C23C14/18（2006.01）I
优先权：10-2015-0002476 2015.01.08 KR
摘 要：提供了一种多层薄膜以及在产品的表面上沉积多层薄膜的方法。所述多层薄膜具有结合到物体的包括非导电材料的第一层、结合到第一层的包括金属材料的第二层以及结合到第二层的包括非导电材料的第三层。
申请公布日：2016.07.20
申请人：三星电子株式会社
地址：韩国京畿道水原市
发明人：赵真贤；刘炯准；李瑞埈；郑珉哲；郑贤俊
Int. Cl.：C23C14/35（2006.01）I；C23C14/06（2006.01）I；C23C14/18（2006.01）I
优先权：10-2015-0002476 2015.01.08 KR
摘 要：提供了一种多层薄膜以及在产品的表面上沉积多层薄膜的方法。所述多层薄膜具有结合到物体的包括非导电材料的第一层、结合到第一层的包括金属材料的第二层以及结合到第二层的包括非导电材料的第三层。