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利用微弧氧化的方法在γ-TiAl合金上制备陶瓷膜，探讨了氧化过程中电流密度与成膜速度的关系。利用扫描电镜研究了氧化膜的表面形态和截面结构，结果表明，氧化膜由三层组成，且氧化膜与基体间有良好的冶金结合；物相分析发现氧化膜中含有金红石、Al2TiO5和SiO2非晶成分，并且物相组成和分布与成膜时间及膜的深度无关；氧化膜的硬度随着氧化时间的增加而增加，极大值出现在距离膜基交界面约10μm附近的氧化膜中。1100℃下的高温氧化实验发现微弧氧化处理后样品的氧化速度只有原始基体材料的1／3，微弧氧化处理后提高了TiA