论文部分内容阅读
为了对 IC制造中真实多余物缺陷进行分类与识别 ,IC多余物缺陷的特征提取是非常重要的一步 .文中首先提出一种基于数学形态学的 IC真实多余物缺陷边界的检测方法 .其次对边界进行了链码描述 .最后对边界所表示的多余物缺陷进行了尺寸测量与形状分析 .在预处理阶段 ,利用彩色 HSV模型分割原 IC图像 ,然后用形态学开运算消除背景噪音 .对开后的结果图像进行形态膨胀及形态腐蚀运算 ,消除多余物缺陷中的小洞噪音以获得从复杂背景中分离和抽取多余物缺陷 .对分离后的缺陷用形态学算子提取边界 .由缺陷边界检测